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全自動晶圓電鍍設備
全自動晶圓電鍍設備
設備名稱:全自動晶圓電鍍設備
設備係列:SP係列
設備分類:生產型(P),研發型(R)
工藝類別:晶圓電鍍
晶圓尺寸:4-12inch
工藝類型:Au,Cu,Ni,Sn,Ag,Pd,Au/Sn alloy …
工藝應用:RDL,PillarBumpTSV
工藝操作:自動
晶圓類型:Si,GaAs,GaN,InP,SiC,Ceramic,Glass …
晶圓尺寸:2-12inch
應用領域
RDL,PillarBumpTSV

產品特點

1.兼容12inch與8inch wafer;
2.全自動運行,foupin-foupout;
3.dry in- dry out ;
4.程式可自由選擇鍍Cu or 鍍Cu/Sn or 鍍Au,自由切換;
5.掃碼或RFID感應自動選擇程式,無需操作員選擇;
6.不鏽鋼SUS316骨架,包覆NPP,結實且
耐腐蝕 ;
7.工控機+PLC控製,係統穩定;
8.Windows操作係統,簡單方便;
9.支持EAP功能;
10.兼容半導體通用SECS/GEM 技術協議;
11.具備自動添加功能。

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