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晶圓水平電鍍設備
晶圓水平電鍍設備

水(shui)平電鍍技(ji)術(shu),它是垂(chui)直電(dian)鍍法技術(shu)發展(zhan)的(de)繼(ji)續,技術的關(guan)鍵就(jiu)是(shi)製造(zao)出(chu)相適應的、相(xiang)互(hu)配(pei)套(tao)的水平電鍍係(xi)統(tong),能(neng)使(shi)高(gao)分(fen)散能力(li)的鍍(du)液(ye),在改(gai)進(jin)供電方(fang)式和(he)其它(ta)輔(fu)助(zhu)裝(zhuang)置的配合(he)下,顯(xian)示(shi)出比(bi)垂直電鍍法更為(wei)優(you)異(yi)的功(gong)能作(zuo)用。

(1)適(shi)應尺(chi)寸(cun)範(fan)圍(wei)較(jiao)寬(kuan),無需(xu)進行手(shou)工裝掛(gua),實現全(quan)部(bu)自動化作業

(2)在工藝(yi)審查中(zhong),無需留(liu)有裝夾(jia)位(wei)置(zhi),增(zeng)加實用(yong)麵(mian)積(ji),大(da)大節(jie)約(yue)原材(cai)料(liao)的損耗(hao)。

(3)水平(ping)電鍍采用全程計(ji)算(suan)機(ji)控(kong)製,使基(ji)板(ban)在相同(tong)的條(tiao)件(jian)下,確(que)保(bao)每(mei)塊印製(zhi)電路板的表(biao)麵與(yu)孔(kong)的鍍層(ceng)的均(jun)一(yi)性。

(4)電鍍槽(cao)從(cong)清(qing)理(li)、電鍍液的添(tian)加(jia)和更(geng)換,可(ke)完全實(shi)現(xian)自動(dong)化作業,不(bu)會因為人(ren)為的錯(cuo)誤(wu)造成(cheng)管(guan)理上的失控問(wen)題(ti)。

應用領域

Pillar,Bump,RDL,TSV等(deng)工藝



上一條:
全自動晶圓電鍍設備
下一條:
沒有產(chan)品(pin)了

產品特點

-機型體積小,靈(ling)活度高

-水平式(shi)電鍍腔體,無(wu)交叉(cha)感染

-支(zhi)持單(dan)腔(qiang)體(ti)維(wei)護(hu),提高設備正常(chang)運作時(shi)間

- 橡(xiang)膠密封技術,更佳(jia)密封性能
- 陰(yin)陽(yang)級分離(li)技術,更佳鍍液穩定性
- 電鍍液種(zhong)類(lei):Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 最(zui)多(duo)8個電鍍腔體:Cu,Ni,Sn/Ag,Au

- 具備預濕(shi)腔體和清洗功能

高度(du)均勻性(xing):WiW≤5%,WtW≤5%,

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